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先進(jìn)的3D蓋板數(shù)字化無掩模成像引領(lǐng)者

ML-300 直接在 3D 曲面玻璃蓋板進(jìn)行高精度曝光,為客戶帶來高分辨率,高效率及高良率的產(chǎn)品,穩(wěn)定的冷卻系統(tǒng),確保設(shè)備內(nèi)部保持 22℃的恒溫狀態(tài),保障了設(shè)備的穩(wěn)定。成功地將集成電路用的微細(xì)工藝“負(fù)性光刻膠”工藝制造技術(shù),運(yùn)用在 3D 曲面玻璃蓋板生產(chǎn)上。
此工藝制造技術(shù),將提升 3D 曲面玻璃蓋板生產(chǎn)一次性良率,可高達(dá) 95%以上, 圖案更精細(xì),色彩還原度更佳。有效改善原傳統(tǒng)絲印良率低、返工率高、線寬粗等弊端。

3D 應(yīng)用優(yōu)勢


無掩膜/光罩,非接觸式光刻
高產(chǎn)能,高良率,低成本
柔性生產(chǎn),快速切換產(chǎn)品

·不規(guī)則曲面玻璃基板上高質(zhì)量圖形轉(zhuǎn)移(<30um)
·z軸實時對焦結(jié)合軟件補(bǔ)償算法,可應(yīng)對每件產(chǎn)品不一致性
·可完成2.5D/3D/4面曲/U型/環(huán)繞等曲面玻璃圖形化
產(chǎn)能 良率 兼容性 打樣成品
1200 pcs/h ≥95% 高于 所有傳統(tǒng)工藝 低于 所有傳統(tǒng)工藝

不同BM工藝VS不同產(chǎn)品 線條對比

移?。ㄊ褂糜湍仙?

光罩曝光機(jī)(使用油墨上色)

GIS-DLP(使用光阻上色)

GIS-DLP(使用光阻上色)

3D曝光機(jī)核心技術(shù)

數(shù)字化成像技術(shù)

利用TI的圖形發(fā)生器-數(shù)字微鏡器件(DMD)芯片來產(chǎn)生數(shù)字圖像, DMD由80萬或200萬個微鏡組成,在DMD光斑范圍內(nèi),能保證清晰和銳利的方形網(wǎng)點(diǎn)。這種最新的數(shù)字曝光系統(tǒng)已成為業(yè)界新標(biāo)準(zhǔn)。


375納米激光器

工業(yè)級別375納米耦合激光器,自主研發(fā)了激光成像系統(tǒng),將375納米耦合激光器激光利用率 從傳統(tǒng)的30%提高至50%


高精度光學(xué)引擎

DLP(Digital light processing)光學(xué)系統(tǒng)采用UV激光光源,輸出的激光通過特種準(zhǔn)直鏡頭實現(xiàn)對DMD的高均勻照明,最后通過投影鏡頭實現(xiàn)圖形的輸出。投影鏡頭為采用紫外特種光學(xué)材料的雙遠(yuǎn)心鏡頭,具有低畸變,高透過率的特點(diǎn)。


高精度運(yùn)動平臺

±1μm運(yùn)動控系統(tǒng);運(yùn)動誤差實時補(bǔ)償系統(tǒng)


領(lǐng)先的智能3D玻璃蓋板全線自動化方案

該方案是用于生產(chǎn)3D蓋板玻璃加工需求,適用于曲面蓋板玻璃工藝;附帶相應(yīng)配合設(shè)備,包括全線配備自動上/下料機(jī)、平板/等離子清洗機(jī)、自動噴涂機(jī)、遂道式表干線、直寫式激光曝光機(jī)、顯影/清洗機(jī)、遂道式固烤線或立式烤箱等輔助設(shè)備;高分辨率,高生產(chǎn)率,高產(chǎn)量,更薄的厚度,更高的質(zhì)量(外觀)低成本;3D Glass LDI適用領(lǐng)域:可穿戴產(chǎn)品,汽車產(chǎn)品,手機(jī)產(chǎn)品,家用電器行業(yè)等

等離子清洗 3D光阻噴涂 GIS曝光 顯影 固化 成像
玻璃表面清潔 噴涂控制單次膜厚 3μm±0.05 公差±0.05mm 低殘留顯影, 控制顯影效果 立體烤箱, 溫度均衡控制 清洗后包裝覆膜 發(fā)往客戶端
規(guī)格參數(shù) / 型號 GL600系列
應(yīng)用領(lǐng)域 大曲面車載玻璃
外觀尺寸mm(可訂制 ) 2430x1900x2015
曝光時間CT/pcs 30-50s
最大曝光面積(可訂制 ) 1000*300mm
可接受光刻膠厚度 1-15um (常規(guī)6um)
額定電壓 單相 220V/50HZ 接地良好
額定壓縮空氣壓力 0.8 Mpa
激光輸出波長 375nm±10nm
激光傳輸方式 光纖
感光材料 光刻膠
圖像解析分辨率 12700dpi
最大功率 4KW (Laser 6w ) / 4.5KW (Laser 9w )
輸出激光功率 6W (±3%)/ 9W (±3%)
輸入文件格式 Gerber274X
曝光精度 50±5μ
產(chǎn)品多層套位精度 40um
油墨邊緣鋸齒 ≤15μm
VA區(qū)長寬尺寸公差 ±60um
位置偏差 ≤60um
硬件重復(fù)精度 ±10um

*如有規(guī)格變更恕不另行通知

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